世界シェア4割を占める秘訣とは?〈TOPPANグループから分離・独立〉テクセンドフォトマスク社長CEO・二ノ宮照雄
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ホロンがフォトマスク欠陥修正技術を発表、国際会議で新たな成果を披露 #半導体技術 #ホロン #フォトマスク

ホロンがフォトマスク欠陥修正技術の研究成果を米国の国際学会で発表。新たな修正装置の開発と性能評価を報告し、半導体分野での価値創出に寄与。

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株式会社ホロンがフォトマスク欠陥修正技術の研究成果を発表しました。国際学会での評価と技術の進化に焦点を当てています。